【特許出願書類の書き方】背景技術~発明が解決しようとする課題の書き方
特許出願書類の書き方シリーズとして、基本的な考え方をご紹介していきます。
本記事では、【背景技術】から【発明が解決しようとする課題】までの部分です。
まず大前提として、特許の出願書類の書き方は、特許法に反しない限り、基本的には自由です。
ただ、以下のような考え方を知っておくと、きっとよい出願書類が書けると思います。ご参考にどうぞ。
(1)簡潔に書く
従来どのようなもの(発明・アイデア)があって、それにどんな問題点(課題)があるのかを簡潔に説明します。
以前、別の記事で述べましたが、特に、背景技術の説明は、あなたの発明自体の説明ではありませんので、重要性は相対的に低くなります。
【Q&A】背景技術~発明が解決しようとする課題は、どのくらい書けばよいか?
あなたの発明の説明がわかりにくくならないように、簡潔に記載しましょう。
(2)典型的ないくつかの書き方
①簡潔型(一般的な書き方)
従来は、装置Aがあった。
装置Aには、Xという課題があった。
(そこで、本発明は、・・・とすることで、課題Xを解決した。)
②さらに改善型
従来は、装置Aがあった。
装置Aには、Xという課題があった。
課題Xを解決するものとして装置Bがあった。しかし、装置Bには、別の課題Yがあった(不十分であった)。
(そこで、本発明は、・・・とすることで、課題X(&Y)を解決した。)
③別のアプローチ型
従来は、装置Aがあった。
装置Aには、Xという課題があった。
課題Xを解決するものとして装置Cがあった。
本発明は、装置Cとは異なる別のアプローチとして、・・・とすることで、課題Xを解決した。
どの書き方もありです。他にもいろいろなパターンがあります。
ちなみに、
②は、装置Bを従来の装置として記載することもできます。そうすれば、一般的な書き方(①)となります。
③は、装置Cについて触れなくてもいいと思います。そうすれば、一般的な書き方(①)となります。
なお、③の書き方をする場合、あなたの発明の効果が、装置Cよりも効果が低いものであっても構いません。
この点については、別の記事で述べています(追ってリンクを張ります)。
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以上の考え方を知った上で、特許公報や、特許庁が出している特許出願書類のひな型を読んでみてください。
ちなみに、特許庁が出している特許出願書類のひな形(ハンドスキャナの発明)は、②の書き方です。
これは、②のような書き方でもよいことを示したに過ぎず、②のような書き方でないといけないというものではありません。
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以上、ご参考になれば幸いです。
最後までお読みくださりありがとうございました。
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東雲特許事務所(しののめ特許事務所)
弁理士 田村誠治(元特許庁審査官)
【東京都港区新橋】【東京都中央区八丁堀】【東京都北区田端】
【稀有な経歴】特許技術者→特許庁審査官→特許事務所運営