【半導体製造装置】リバースエンジニアリング--方針--
1.年始の挨拶みてえなモンだよ…
あけましておめでとうございます。徒然技師です。今年もよろしくお願いいたします。というかまだ1枚の記事しか見てないですが…
新年といったら、欠かせないのはやはりお節料理と座標変換・行列計算ですよね。
そのため、今年は実家にて、ドラマ・相棒の元旦スペシャル、劇場版ハイスクール・フリート、青天を衝けの総集編を見ながら、暇つぶしにピッタリの行列計算を行っておりました。今回は計算していくにつれシンプルになっていったので、ステーションバーのおっさんの「生の映画を観ているようなモンだよ」的な感じで感動しておりました。ちなみに⑨面調和関数とか好きですどうでもいいですよね。
ステーションバーについては下記をご参照ください。
さて、こんな非リア充な充実した年末ですが、真面目な勉強のために、実はちょっと動画を見ながら疑問を膨らませてました。
今回の題材はとりあえずカッコ良さそうなEUV露光装置です。
2.EUV露光装置動画
EUV露光装置というのをご存知でしょうか？まぁ普通知らないですよね？
なんとお値段数百億円する世界で最も精密な機械と言われている機械です。
ちなみに年間で生産出来るうまい棒は、ググってみると7億本だそうです。つまりは1本10円として、1年で70億円。つまりはEUV露光装置1台はざっくり2[年分うまい棒]ということになります。スケールの大きさにうまい棒が進みます。デブですね。
そんな高額な装置ですが、年末にIntelさんがEUV装置が並んでるラインを公開した動画があります。うむ太っ腹。
Gigazineに日本語での解説記事があります。見てみると楽しいかもです。
https://gigazine.net/news/20211229-intel-euv-most-precise-complex-machine/
動画内容はGigazineに書いてあるのでさておきです。ここで書いても二度手間なので、割愛です！
ただ、年始に相棒やハイスクールフリートを見つつ動画を見ていると、凡才な私にも、この装置について様々なことが気になってきます。やはり登場人物が覚えきれない
200tもの重さ。スクールバス程度の大きさの割には200tは重すぎる印象がある。重すぎる原因はレンズ鏡筒、EUV露光装置においては「EUVミラー支持構造体」が巨大すぎる&Flexure構造体なのが問題なのかな？と。メカの摺動部のガタが問題となりやすい精密機械なので仕方なしなのですかね？https://www.electrooptics.com/feature/euv-lithography-reaches-starting-line
ステージは片側H型構造？片持ちで精度が出るのか？？反力による衝撃吸収をするカウンターマスはどこに…？_https://www.asml.com/en/technology/lithography-principles/mechanics-and-mechatronics
ステージメンテナンス性について、下記画像をみると、どうやら下のブロックが丸ごと交換できるようになっているらしい。そうなるとステージの尺度とレンズフレーム尺度が合わない。これは２次元スケーラーとかで対応しているのだろうか？
光学系について、反射型対物レンズを利用している以上、最終的にはSchwarzschild光学系を採用してくるとは思っていますが、どういう設計思想でどういう作り方しているのか？https://annex.jsap.or.jp/photonics/kogaku/public/28-12-kaisetsu3.pdf
ステージとレンズ間の真空の保ち方、EUVの透過率考えるとちょっとの光も無駄にできないはず？？
フレーム作成について、下記画像を見た瞬間になんだこれ状態になった事。加工方法とか気になる…https://www.technologyreview.jp/s/260717/inside-the-machine-that-saved-moores-law/
…etc
とか様々な疑問が湧いてきます。
3.ここからの方針
上記疑問にこれまでの知識総動員で考えるなぞ、田舎エンジニア、凡才には厳しいかもですね。
とはいえ物理・光学・電気・精密機械・精密制御をやってきた身としては、ほんのちょっとでもわかればいいなぁと思っています。
まぁ新年という事で目標は高くするという事で。今回は上記で書いた気になった点を特許や数式を利用しながら解析していこうかなと思います。
そして、ゆくゆくは「EUV露光装置の基礎知識をまとめたテキスト」でも作り上げるとしておきます。これできる気がしないのですが…
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