武漢の研究所。シリコンフォトニクスの開発。HuaweiのAIチップも新たな一歩を踏み出す

香港の英字新聞「SCMP(South China Morning Post/サウス・チャイナ・モーニング・ポスト/南华早报/南華早報)」のキンメイ・シェン(Xinmei Shen)は2024年10月06日に、武漢に拠点を置く研究所は、技術的なハードルをクリアできるシリコンフォトニクスのブレークスルーと主張し、中国が従来のチップ設計技術によって課せられた制約を克服するのに役立つ可能性のある「マイルストーン」を発表したと報告した。

中国の国営半導体研究所は、シリコンフォトニクスの開発で「画期的な成果」を達成したと発表した。この成果は、米国による制裁措置が続く中、中国がチップ設計における現在の技術的障壁を克服し、自給自足を達成するのに役立つ可能性がある。

湖北省中央部の省都でフォトニクス研究の国家拠点である武漢に拠点を置くJFS研究所は、シリコンベースのチップと統合されたレーザー光源を点灯させることに成功した。これは中国で初めて成功したと、同研究所が先週公開したブログ記事で述べられている。

この成果は、中国がオプトエレクトロニクス技術における「数少ない空白の1つ」を埋めたことを意味すると、国営メディアの人民日報が2024年10月04日金曜日に報じた。

また、SCMP北京のチェ・パニン(Che Panin)は2024年09月29日に、中国企業がNvidiaの代替品を模索する中、HuaweiのAIチップが新たな一歩を踏み出したと報告した。

米国が制裁対象としている華為技術(Huawei/ファーウェイ)は、中国の潜在的顧客と新しいAI(Artificial Intelligence/人工知能)チップのテストを開始した。