13.5nm波長の光EUV(Extreme Ultraviolet/極端紫外線)の露光技術

EUVの露光技術で、半導体デバイス微細化を可能にする。
EUV露光装置が作れるのは、ASML社だけである。

世界でオランダのASML社のEUV露光装置を導入しているのは、米国のインテル(Intel)韓国のサムスン電子(Samsung Electronics)、台湾のTSMC(Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Limited/台灣積體電路製造公司/台湾積体電路製造)などであったが、日経 xTECH(クロステック)は2024年03月14日に、日本のラピダス(Rapidus)も入手できるようになり、北海道の半導体工場に導入することが可能になったと報告した。
米国のMicron Technology(マイクロン・テクノロジー)も広島工場に、EUV露光装置を導入すると伝えた。

日経 xTECHは2024年10月07日に、間もなく日本上陸すると報告した。