【学会誌】粉体ALD

aeddgin

こんにちは。
『表面技術』2023年3月号を読んでいます。
読んだ記事について、気になったポイントをメモしておきたいと思います。

今回読んだ記事のタイトルは「粉体ALDとその応用」で著者はALDジャパン㈱の百瀬さんです。

内容

”粉体ALD”とは何か？どんな装置が使われるか？を説明したうえで、期待される応用分野について簡単に触れています。

ポイント

  • ALD(Atomic Layer Deposition)技術を粉体へのコーティングに使用したものを”粉体ALD”と呼ぶ

  • ALDの反応炉の中で粉体を巻き上げることで、個々の粉体表面にnmレベルの成膜を行う装置を用いる。

    • バッチ型：ロータリー反応器(反応器自体を回転させる)、流動層型(ガラス管の中で巻き上げる)

    • 連続型：反応プロセス(酸化⇔成膜)毎にチャンバーを分ける

    • 量産機で主要なメーカー：ForgeNano社（米国コロラド州）、Delft IMP社（オランダ）

  • 応用分野：保護膜、燃料電池、触媒材料

  • 近年の研究で、下地の結晶方位によって選択的に成膜される可能性が示唆された

私の認識ではALDは成膜速度が遅いので、限られた分野でしか量産には適応できないと思っていました。

しかし、ここで紹介されている装置構成を見ると、思っていたよりも広い分野で使えそうであり、場合によっては通常のCVDやめっきと並べて、プロセスの選択肢に入れても良いのではないかと感じました。

今日は以上です。

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