半導体の微細化に不可欠なEUV露光技術の現状とこれから《TELESCOPE Magazine》

以下、TELESCOPE Magazineの記事より引用

スマートフォンのような誰もが持ち歩く機器にも、最先端の半導体チップが搭載されるようになった。その進化は、デジタル社会の発展のみならず、安全保障面での国際競争力にも大きな影響を及ぼす。最先端の半導体チップを、必要な時に、必要な数だけ、確実に製造・調達できるかは、社会の持続可能な成長を考える上で最重要関心事のひとつとなっている。そして、その動向を洞察する上で、EUV（Extreme Ultraviolet）と呼ばれる半導体製造のキーテクノロジーに注目が集まっている。あまりにも技術的難易度が高すぎて、技術を提供するサプライヤーも、それを利用する半導体メーカーも限られるからだ。

この記事でわかること

• 半導体微細加工技術のキーテクノロジーEUV露光

• EUV露光技術とは

• EUV露光技術の歴史

• EUV露光は何が難しいのか

• EUV露光装置の現状

• EUV露光装置の未来

• 日本の装置・部材メーカーの役割

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半導体の微細化に不可欠なEUV露光技術の現状とこれから