スパッタリングの歴史
スパッタリングとは、nmからμm程度の薄膜を成膜する手法の一つです。このページでは
スパッタリング成膜の歴史を関連書籍、特許文献、論文等の参考文献を元に年表形式でまとめていきます。ゆっくりゆっくり書き上げていきたいと思います。
2022年
2020年
2010年
2000年
1990年
1980年
1970年
1960年代
Ta薄膜からスパッタリング成膜のエレクトロニクス応用が始まった。
1960年代，エレクトロニクスへの真空利用は，半導体で はメタライズの真空蒸着があり，もう一つがハイブリッド IC (HIC)用であった.この HIC への Ta 膜形成からスパッ タリング技術のエレクトロニクスへの導入が始まった.
企業から見たスパッタリング技術の進展と今後への期待
1927年 イギリスで薄膜ヒューズの特許出願される
Fusible cut-outs.-A fuse is made of a film of metal so thin as not to be self-supporting mounted on an insulating backing. Gold, silver, copper &c. may be beaten to the required degree of thinness or the film may be prepared by the following methods.
1927年 イギリスでスパッタリング成膜を用いたピエゾ素子製造方法が特許出願される
and a conductive coating of platinum, silver, copper, &c. is then deposited, preferably at a temperature of 100‹ C., by evaporation in vacuo or by sputtering the metal in a gas.
1853年 こちらがスパッタリング現象の発見年という説もある
同じ著者である Grove が 1 年後 に書いた論文を，論文としての元祖にあげる人もいる.
R. Behrisch ed.: Topics in Applied Physics, vol. 47 (1981)
"Sputtering by Particle Bombardment I''という Series 本の中で，Behrisch は自ら執筆した第 1 章でW. R. Grove: Phil. Mag., 5 (1853) 203 "On Some Anomalous Cases of Electrical Decomposition'' がスパッタリング観察の初めだとした.
真空・薄膜徒然草 18
1852年 スパッタリング現象に関する最初の記述
1852年イギリス人のGroveは,グロー放電の最中 陰極から物質が飛び 出して周囲のガ ラス管壁を汚すことを観察したと記録しており,これがスパッタリングに関する最初の科学的記述とされている
スパッタリングに関する入門書を読むと，何冊かに，スパ ッタリングは1852年に Grove により発見されたと記されて いる.根拠となる発表文献は
W. R. Grove: Phil. Trans. Roy. Soc., 142 (1852) 87 である.論文題目は"On the Electro-Chemical Polarity of Gases"
真空・薄膜徒然草 18
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