【学会誌】化学溶出析出法を使ったガラスのメタライジング
こんにちは。
『表面技術』2023年1月号を読んでいます。
読んだ記事について、気になったりやポイントだと思った部分をメモしておきたいと思います。
今回読んだ記事のタイトルは「ガラス基板上への低抵抗・密着性Cu層の科学的形成」で著者は豊橋技術科学大学の伊﨑さん他数名の方々です。
内容
化学溶液析出法(CBD)を使ったガラス基板上へのCu膜の形成技術に関する内容です。
CBD法は水溶液中の化学反応を利用して基板上に薄膜を形成する技術ですが、硫化物や酸化物の成膜が容易に行えることが特徴のようです。
CBD法で製膜した後に水素化ホウ素Na水溶液等で還元することで金属膜を得ることもできます。
この記事では、CBD法で成膜→還元によって得られたCu膜の導電性・密着性を評価しています。
ポイント
CBD法の還元で得られたCu膜は粒子サイズ40nm程度の微細結晶粒子の集合体
シート抵抗は還元液への浸漬時間が長いほど低く、10分浸漬で1Ω/□以下となった
密着強度はテープピール試験で、還元処理によって増加した(平均値で、還元前3.9N/cm→還元後9.0N/cm)
関連文献
https://www.newglass.jp/mag/TITL/maghtml/130-pdf/+130-p013.pdf
https://www.jstage.jst.go.jp/article/sfj/64/2/64_109/_pdf/-char/ja
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