｢フォトマスクの基礎を解説！｣を技術トレンドキーワードに追加しました。
フォトマスクは、主に半導体やマイクロエレクトロニクスの製造で使用される、高精度なパターン形成用のマスクです。基板に光を通してパターンを転写するためのテンプレートとして使用され、特にリソグラフィー工程で不可欠な役割を果たします。フォトマスクについて、特徴や用途、製造プロセスについて説明します。
1.フォトマスクの基本構造
2.フォトマスクの用途
3.フォトマスクの製造プロセス
4.フォトマスクのメリットと課題
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