【要約】グラフェンにおける構造欠陥

フローリアン・バンハートら
ACS Nano. 2011.

元記事はこちら。
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/21090760/

概要

　グラフェンは、ナノテクノロジーにおいて最も有望な材料の一つである。原子格子の完全性が高いグラフェン試料の電子的・機械的特性は卓越しているが、成長過程や加工過程で生じる構造欠陥は、グラフェンを用いたデバイスの性能を劣化させる。
しかし、完全性からの逸脱は、グラフェンの局所的な特性を調整し、新たな機能を実現することを可能にするため、一部の応用分野では有用であると考えられている。
本稿では、グラフェン中の点欠陥および線欠陥に関する現在の知見について概説する。特に、内在性欠陥の周囲で格子を再構成し、興味深い効果や応用の可能性をもたらすグラフェンのユニークな能力に焦点を当てる。
また、グラフェンをベースにした特殊な特性を持つデバイスを設計する上で同様に重要な、異物混入などの外部欠陥についても論じている。

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